Rusya, yerli yarı iletken teknolojileri geliştirme çalışmaları kapsamında yeni bir litografi sistemini duyurdu. Zelenograd Nanoteknoloji Merkezi tarafından geliştirilen Progress ELL 150 isimli elektron ışını doğrudan yazım (Electron Beam Direct Write) litografi sistemi, 150 nanometre çözünürlükte desen oluşturabiliyor. Yeni sistem, yüksek hacimli çip üretiminden çok savunma, uzay ve özel amaçlı yarı iletken uygulamalarını hedefliyor.
Elektron Işını Litografi Sistemi Fotomaske Kullanmadan Desen Oluşturuyor
Rus basınında yer alan bilgilere göre Progress ELL 150 prototipi Haziran 2026’da tamamlandı. Geliştirici ekip, iki farklı prototip üzerinde yaklaşık dört ay sürmesi planlanan ilk test sürecini yürütüyor. Testlerde desenleme hassasiyeti, doğruluk oranı ve sistemin teknik performansı ayrıntılı olarak değerlendirilecek.
Elektron ışını litografi (Electron Beam Lithography – EBL), geleneksel fotolitografi sistemlerinden farklı bir çalışma prensibine sahip bulunuyor. Bu yöntemde fotomaske kullanılmıyor ve elektron demeti yardımıyla yarı iletken yüzeyine doğrudan desen yazılıyor. Böylece yeni tasarımların geliştirilmesi ve düşük hacimli üretim süreçleri daha esnek hâle geliyor.
Bununla birlikte EBL teknolojisinin önemli bir sınırlaması da bulunuyor. Elektron demeti her deseni tek tek oluşturduğu için üretim hızı fotolitografi makinelerine göre oldukça düşük kalıyor. Bu nedenle teknoloji, günümüzde büyük ölçekli ticari çip üretiminden ziyade fotomaske üretimi, araştırma projeleri ve prototip geliştirme çalışmalarında tercih ediliyor.
Rusya’nın geliştirdiği Progress ELL 150’in tüketici elektroniğinde kullanılan yüksek hacimli işlemcileri üretmek için tasarlanmadığı belirtiliyor. Sistemin öncelikli kullanım alanı, savunma ve uzay sanayisinde ihtiyaç duyulan düşük adetli ancak özelleştirilmiş yarı iletkenlerin geliştirilmesi olacak. Bu tür projelerde üretim kapasitesinden çok tasarım esnekliği ve özel üretim yeteneği önem taşıdığı için elektron ışını litografi uygun bir seçenek olarak değerlendiriliyor.
150 nanometrelik üretim çözünürlüğü, günümüzde TSMC, Samsung ve Intel gibi üreticilerin geliştirdiği 2 nm ve 3 nm sınıfındaki ileri üretim teknolojilerinin oldukça gerisinde bulunuyor. Buna rağmen Rusya açısından yerli litografi altyapısının oluşturulması, dışa bağımlılığı azaltma hedefi doğrultusunda stratejik bir adım olarak görülüyor.
Progress ELL 150’in seri üretime uygun bir ürüne dönüşüp dönüşmeyeceği ise devam eden testlerin tamamlanmasının ardından netleşecek. Başarılı sonuçlar alınması hâlinde sistem, Rusya’nın yerli yarı iletken üretim kapasitesini artırmaya yönelik projelerde önemli bir rol üstlenebilir.
